23.07.2026 14:10
Зеленоградский центр создал установку для безмаскового производства микросхем Российская микроэлектроника получила ещ
Зеленоградский центр создал установку для безмаскового производства микросхем
Российская микроэлектроника получила ещё один инструмент для самостоятельной разработки чипов. Зеленоградский нанотехнологический центр завершил создание установки электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм.
«Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев, — рассказал CNews генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев . — После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры».
Разработка ведётся в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».
Установка работает по принципу безмасковой литографии. В отличие от фотолитографии, где используется фотошаблон, здесь рисунок наносится непосредственно сфокусированным пучком электронов. Это даёт возможность оперативно менять топологию без изготовления дорогих масок. Такой подход востребован при мелкосерийном производстве — для космической, оборонной и специализированной электроники, где использование масок экономически нецелесообразно.
Для серийного выпуска метод слишком медленный, поэтому его применяют ограниченно. В отрасли также сохраняется ряд системных проблем: отсутствие отечественных фоторезистов для технологий ниже 90 нм, необходимой компонентной базы и госстратегии по реинжинирингу.
Ранее ЗНТЦ разработал фотолитограф с разрешением 350 нм. Сейчас ведутся работы над установкой на 130 нм.
Комментарии: pikabu.ru/link/cKkwrx7Vo7
Российская микроэлектроника получила ещё один инструмент для самостоятельной разработки чипов. Зеленоградский нанотехнологический центр завершил создание установки электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм.
«Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев, — рассказал CNews генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев . — После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры».
Разработка ведётся в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».
Установка работает по принципу безмасковой литографии. В отличие от фотолитографии, где используется фотошаблон, здесь рисунок наносится непосредственно сфокусированным пучком электронов. Это даёт возможность оперативно менять топологию без изготовления дорогих масок. Такой подход востребован при мелкосерийном производстве — для космической, оборонной и специализированной электроники, где использование масок экономически нецелесообразно.
Для серийного выпуска метод слишком медленный, поэтому его применяют ограниченно. В отрасли также сохраняется ряд системных проблем: отсутствие отечественных фоторезистов для технологий ниже 90 нм, необходимой компонентной базы и госстратегии по реинжинирингу.
Ранее ЗНТЦ разработал фотолитограф с разрешением 350 нм. Сейчас ведутся работы над установкой на 130 нм.
Комментарии: pikabu.ru/link/cKkwrx7Vo7