Акции крупнейших американских производителей полупроводников стремительно потеряли в стоимости после того, как появились сообщения о запуске Китаем св…
Сообщается, что китайская компания в Шанхае при поддержке государства начала выпуск ограниченной серии первых в Китае отечественных литографических систем для использования в глубоком ультрафиолетовом диапазоне (DUV). Эти установки, по утверждениям, способны выпускать чипы по технологии 7 нм с применением техники многократной экспозиции.
В то же время, согласно источнику, новые китайские системы пока отстают от оборудования нидерландской компании ASML по показателям производительности, точности и надежности. Несмотря на это, после появления этой новости акции ASML резко упали, и торги ими были временно приостановлены. Также значительно подешевели акции компаний Applied Materials, Lam Research и KLA.
Как указывает Clash Report, разработка новых систем не закрывает технологического разрыва в вопросе EUV-литографии, необходимой для создания самых передовых чипов, однако может явиться важным шагом к уменьшению зависимости Китая от американских и европейских экспортных ограничений в области старых и среднего уровня технологических процессов.