🚀 Китайцы ускорили производство фотонных чипов в сотни раз Ионно-лучевая литография превосходит классическую фотолитогр
Ионно-лучевая литография превосходит классическую фотолитографию по точности техпроцессов, но серьёзно уступает в скорости. Институт физики Китайской академии наук совместно с Гонконгским университетом разработали метод «оригами, индуцированное ионным пучком», который сократил ключевой этап изготовления фотонных чипов с нескольких часов до 20 секунд. Работа опубликована в журнале Advanced Materials.
Секрет в замене точечной обработки на широкий параллельный пучок ионов аргона. Технология позволяет обрабатывать 10-сантиметровую пластину целиком за один проход, превращая плоские наноструктуры в трёхмерные элементы с однородностью изгибов более 97%. Двухслойные элементы толщиной около 50 нм каждый синхронно изгибаются под воздействием ионов, создающих механические напряжения в материале.
Учёные изготовили два прототипа: хиральную метаповерхность с круговым дихроизмом 0,8 на длине волны 3,41 мкм и плазмонную решётку с перестройкой резонанса более 150 нм в видимом спектре. Структуры применимы в поляризационных датчиках, спектральных фильтрах, оптических сетях связи и интегрированных фотонных схемах.
Сможет ли этот метод стать стандартом для массового производства фотонных чипов?
📊 GPT, Claude, Gemini, DeepSeek, GigaChat — один сервис: chatru.net