Отечественный литограф на 150 нм уже готов.
▪️ Как оказалось, ЗНТЦ уже создал два опытных образца установки электронно-лучевой литографии с проектной нормой 150 нм. Оборудование сейчас проходит комплексные испытания, которые займут 4 месяца, а после его отправят в пункт назначения за 2 тыс. км от столицы.
Информация о готовности оборудования всплыла в тендерной документации на его транспортировку, но куда именно его отправят - неизвестно. Зато известно, что речь идёт о безмасочном литографе - он умеет «рисовать» микросхемы напрямую, без использования фотошаблонов.
▪️ Отсюда все плюсы такой установки: гибкость, быстрая смена рисунка без затрат на маски - идеально для прототипов и мелких серий спецмикросхем (космос, оборона). Метод удобен для НИОКР, так как не требует дорогих масок при смене рисунка, но для крупных серий слишком медлителен.
Подписывайтесь на МашТех