🔬 Huawei создаёт литографию для китайских чипов С 2019 года Huawei под американскими санкциями координирует разработку
С 2019 года Huawei под американскими санкциями координирует разработку литографического оборудования DUV в Китае — того самого, на которое ASML уже получила экспортные ограничения. Компания выступает «менеджером проектов» национального масштаба, связывая стартапы, производителей и инвестфонды в единую цепочку импортозамещения.
Главный результат — шанхайская Yuliangsheng (связана со стартапом SiCarrier, близким к Huawei) испытывает прототипы DUV-сканеров на мощностях SMIC и самой Huawei. До конца года планируют выпустить 12 установок. SMIC уже тестирует систему для 28-нм чипов и пытается адаптировать её под 7 нм через множественную экспозицию. Часть прототипов собрана из импортных компонентов (оптика Zeiss с вторичного рынка), другие — полностью на китайских.
Узкие места — оптика и лазеры. Huawei инвестирует в Fujian Zhiqi Photonics (высокоточная оптика вместо Zeiss) и RSLaser Opto-Electronics (источники излучения). Проблема в стабильности лазеров на высоких мощностях — китайские аналоги пока уступают японской Gigaphoton и европейской Cymer.
В массовом производстве китайские фабрики всё ещё используют оборудование ASML, закупленное до санкций — у CXMT и YMTC запас на три года. Западные эксперты оценивают отставание Китая в 15 лет, но санкции только ускоряют локализацию.
Успеет ли Китай догнать ASML до исчерпания запасов импортного оборудования?
💡 GPT, Claude, Gemini в одном сервисе — chatru.net