Россия делает свою установку для металлизации чипов
НИИТМ и НИИМЭ из «Элемента» приступили к разработке первой в России 8-модульной кластерной установки для магнетронного напыления алюминиевой металлизации. Оборудование нужно для производства микросхем с топологическими нормами 180-90 нм на пластинах диаметром 200 мм.
Проект реализуется по программе «Развитие электронного машиностроения до 2030 года» с поддержкой Минпромторга. Срок завершения – сентябрь 2030 года.
В конструкции есть интересное решение: два распределительных модуля разделены буферной камерой, которая поддерживает высокий вакуум. Это напрямую влияет на чистоту и качество пленок. Установка вмещает восемь технологических модулей, два шлюза загрузки-выгрузки и двух роботов-манипуляторов. Благодаря модульному принципу возможно изменение конфигурации или модернизация оборудования для выполнения новых производственных задач.
В проекте НИИТМ разрабатывает конструкторскую документацию, делает макеты узлов и опытный образец. НИИМЭ формулирует технические требования и проводит полный цикл технологических испытаний.
В прошлом году «Элемент» уже завершил первые российские кластерные системы для плазмохимического осаждения и травления. Металлизация – следующий шаг в строительстве отечественной производственной линейки. Гендиректор НИИМЭ Александр Кравцов рассчитывает, что установка найдет покупателей не только в России, но и за рубежом.
Телекоммуналка